影响膜厚测试仪性能的因素
膜厚测试仪是常见的一种设备镀层检测工具，采用磁性测厚法，可以方便无损地测量铁磁材料上非磁性镀层的厚度，因此膜厚测试仪受到很多厂商的追捧。但是影响膜厚测试仪的因素很多人无从得知，进而本文将进行具体介绍影响膜厚测试仪性能的因素：
一、基体金属磁化
因为膜厚测试仪磁性法测量受基体金属磁性变化的影响（在实际应用中，低碳钢磁性的变化可以认为是轻微的）。为了避免热处理、冷加工等因素的影响，应使用与镀件金属具有相同性质的铁基片上对仪器进行校对。并且每一种膜厚测试仪都有一个基体金属的临界厚度，大于这个厚度测量就不受基体厚度的影响。
二、边缘效应
由于膜厚测试仪对试片表面形状的陡变敏感，因此在靠近试片边缘或内转角处进行测量不可靠。所以膜厚测试仪的曲率对测量有影响，这种影响是随着曲率半径减小明显增大。因此不应在试件超过允许的曲率半径的弯曲面上测量。
三、表面粗糙度
基体金属和表面粗糙度对膜厚测试仪测量有影响。粗糙表面会引起系统误差和偶然误差。每次测量时，在不同位置上增加测量的次数，克服这种偶然误差。如果基体金属粗糙还必须在未涂覆的粗糙相类似的基体金属试件上取几个位置校对仪器的零点；或用没有腐蚀性的溶液除去在基体金属上的覆盖层，再校对仪器零点。
四、磁场
周围各种电气设备所产生的强磁场，会干扰膜厚测试仪测量厚度的工作。并且膜厚测试仪对那些妨碍探头与覆盖层表面紧密接触的附着物质敏感。因此必须清除附着物质，以保证探头与覆盖层表面直接接触。值得注意的是在测量中使探头与试样表面保持垂直。
以上几个因素都会影响膜厚测试仪的性能，用户需要格外注意。另外，深受厂商喜爱的膜厚测试仪采用单片机技术，精度高、数字显示、示值稳定、功耗低、操作简单方便、触摸按键、单探头全量程测量、体积小、重量轻，且具有存储、读出、统计和低电压指示准等特点。
